반도체·디스플레이 소재 그래핀랩 비상장 주식~~

그래핀랩은 2018년 설립된 세계 최초로

화학기상증착법(CVD)을 이용해 그래핀

사업화를 이뤄낸 기업입니다.

 

그래핀랩은 그래핀 소재의 유기발광다이오드(OELD)

박막봉지, 파인메탈마스크(FMM) 등을

상용화해 주목을 받았습니다.

 

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그래핀랩이 기술신용평가 기관 '이크레더블'이

진행하는 기술신용평가(TCB, Technology Credit Bureau)에서

TI3 등급을 받았다고 합니다.

 

TI3 등급은 미래 성장 잠재력이 우수한

수준을 뜻하며, 기술 특례 상장이 가능한 수준의

기술력을 갖춘 기업에 주어지는 등급입니다.

 

그래핀랩에 따르면 CVD 그래핀 및 EUV 펠리클 개발 등

기술 개발 건, FMM CTE(Coefficient of Thermal

Expansion, 열팽창계수)값 1ppm/℃ 이하 달성 등

기술 상용화 건, 산업통상자원부장관 표창을 포함한

각종 수상 건, 여러 특허 등록 및 출원 등의

지식재산권을 기반으로 좋은 평가를 받았으며,

특히 최근 EUV 펠리클 생산 장비 투자 및 입고를

완료하는 등 긍정적인 성과를 거두었다고 합니다.

 

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그래핀랩은 그래핀을 원료로 5나노미터

(㎚·1㎚는 10억분의 1m) 이하 EUV 펠리클(pellicle)을

제조하는 기술을 확보해 양산 준비를 마쳤다고 합니다.

 

실리콘을 재료로 만들던 펠리클을

그래핀 소재로 대체하게 됐다며

그래핀 펠리클이 ASML 장비를 사용하는

반도체 대기업 수율을 끌어올리는

부스터 역할을 할 것이라고 합니다.

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펠리클은 대기 중 분자나 오염으로부터

포토마스크 표면을 보호하는 나노 단위의

박막인데, 5나노 이하 초미세 공정에 필수로

사용되며 주기적인 교체가 필요한 소모품입니다.

 

EUV 장비 광원의 파장이 짧은 까닭에

펠리클을 얇게 구현하고 투과율을 높이는

기술이 필요한데, 그동안은 실리콘을 재료로

제조했지만, 그래핀은 두께가 0.2나노에

불과할 만큼 얇은 데다 투명해 실리콘보다

더 효과적이라고 합니다.

 

그래핀은 구리보다 100배 이상 전기가 잘 통하고

실리콘보다 100배 이상 전자 이동성이

빠른 데다 강도는 강철의 200배에 달해

‘꿈의 신소재’로 불린다며 삼성전자와 TSMC,

인텔이 그래핀랩의 잠재 고객이라고 밝혔습니다.

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